آموزش پیشرفتهآموزش نانو

مبانی و فیزیک اتصالات نانوالکترونیکی 1

امروزه ادوات الکترونیکی متعددی با استفاده از فلزات و نیمه‎هادی‎ها تولید و عرضه می‌شوند. محل اتصال مواد به کار رفته در ساختار این ادوات، یکی از موضوعات مهم در شناخت خواص و عملکرد قطعات الکترونیکی به شمار می‌رود. نوع اتصال بین نیمه‎هادی و فلز، بر روی نحوه انتقال جریان الکتریکی در محل اتصال اثرگذار است و می‌تواند منجربه خواص و کاربردهای گوناگون این نوع اتصالات در قطعات میکرو و نانوالکترونیکی شود. از نگاه علمی، ساختار نواری مواد به‌کار رفته در یک اتصال، به طور مستقیم بر نحوه انتقال جریان الکتریکی در اتصال نیمه‎هادی- فلز تاثیرگذار است و آن را کنترل می‎کند. با توجه به ساختار نواری این دو ماده، اتصالات نیمه‎هادی- فلز به دو دسته «مانع شاتکی» و «اتصال اهمی» تقسیم‎بندی می‎شوند. در مانع شاتکی، جریان الکتریکی می‎تواند از یک سمت عبور کند، درحالی‌که از سمت مقابل با یک مانع پتانسیلی روبرو است. از این رو، اتصال شاتکی می‎تواند به عنوان یکسوکننده جریان الکتریکی مورد استفاده قرار گیرد. در مقابل، جریان الکترونی به راحتی از هر دو سمت  اتصال اهمی عبور می‎کند. در این نوع از اتصالات، جریان و ولتاژ اعمالی، رابطه خطی نسبت به‎ یکدیگر دارند و اصطلاحاً اتصال از قانون اهم پیروی می‎کند. در این مقاله، به تشریح مبانی و فیزیک این دو نوع اتصال پرداخته خواهد شد.

این مقاله شامل سرفصل‌های زیر است:

1- مقدمه
2- تاریخچه
3- پیش‌زمینه
1-3- ساختار نواری مواد الکترونیکی
2-3- انرژی یا سطح فرمی
3-3- تابع کار(work function)
4-3- وابستگی الکترون (electron affinity)
5-3- خمش نوار (band bending)
4- اتصالات مانع شاتکی
5- اتصال اهمی
نتیجه‎گیری

1- مقدمه

مطالعه اتصالات فلز- نیمه‎هادی، تاریخچه نسبتاً طولانی دارد و می‌توان شروع آن را به یک قرن گذشته نسبت داد. از آن زمان تاکنون، این اتصالات مبنای اصلی بسیاری از تحقیقات در زمینه الکترونیک حالت جامد شده است. تحقیقات و آزمایش‎های گسترده‌ای در زمینه تئوری، ساخت و مشخصه‎یابی این اتصالات و تولید ادوات مبتنی بر آنها انجام شده است و محصول این فرآیند، شناخت بیشتر بشر در مورد ماهیت الکترونیکی اتصالات بوده است.
اتصال‎ بین فلزات و نیمه‎هادی‎ها نقش بسیار مهمی در ساختار ادوات الکترونیکی دارد. این اتصالات در کنترل عملکرد و ایجاد ارتباط بین ادوات‎ و محیط پیرامون آنها نقش دارند. با نگاه کوتاهی به تعداد مقالات و کتاب‎های چاپ شده در زمینه شناخت، طراحی و بکارگیری این نوع اتصالات، می‎توان به اهمیت آنها در علم میکرو و نانوالکترونیک پی‎برد. به‎طور کلی، این اتصالات زمانی به‎وجود می‎آیند که یک قطعه فلزی به یک قطعه نیمه‎هادی متصل می‌شود. این اتصالات به دو نوع «مانع شاتکی» (Schottky barrier) و «اتصال اهمی» (Ohmic contact) تقسیم‌بندی می‎شوند. مانع شاتکی، یکسوکننده جریان الکترونی است. در مقابل، جریان الکتریسیته می‎تواند از هر دو سمت اتصال اهمی جریان یابد.

2- تاریخچه

ساخت اولین اتصال فلز- نیمه‎هادی به سال 1874 بازمی‎گردد. در آن زمان فردیناند برآون (Ferdinand Braun) متوجه خاصیت یکسوکنندگی اتصال بین فلز و سولفید آهن شد. این کشف در نهایت منجر به ساخت دیود (یکسوکننده) الکتریکی به نام «موی گربه» (cat’s whisker) گردید. وسیله‌ای که برآون طراحی کرده بود، سیم نازکی از جنس فلز تنگستن بود که نوک آن مانند موی گربه تیز و به سطح نیمه‌هادی سولفید سرب پرس شده بود. در آن زمان، از این دیود در شناساگرهای امواج رادیویی استفاده می‎شد. این دیودها به دلیل کارایی بالا در مبدل‎های فرکانسی و شناساگرهای امواج میکرونی، در طول جنگ جهانی دوم مورد توجه قرار گرفتند. با این حال، این دیود مشکلات متنوعی مانند نویز بسیار بالا، مقاومت قابل ملاحظه و قدرت نسبتاً کم داشت که از کوچک بودن سطح اتصال بین فلز و نیمه‌هادی ناشی می‎شد. این چالش‌ها نهایتاً منجر به جایگزینی آنها با یکسوکننده‎هایی با سطح مشترک بزرگ شد. در این نوع از دیودها، یک فیلم نازک از جنس نیمه‎هادی بر روی سطح فلز پوشش داده می‎شود. اولین نوع این یکسوکننده‎ها با رشد گرمایی (thermal growth) یک لایه نیمه‎هادی اکسید مس (I) بر روی زمینه مسی در سال 1926 میلادی ساخته شد. از دیگر نمونه‎های اولیه یکسوکننده‎های با سطح بزرگ می‎توان به نوع سلنیومی اشاره کرد که در آنها فیلم سلنیومی از فاز بخار بر روی زمینه فلزی رشد داده می‎شود. از این یکسوکننده برای تبدیل جریان متناوب به جریان ثابت استفاده می‎شد.
اولین و مهمترین گام‌ها برای شناخت این نوع اتصالات، توسط شاتکی و موت (Mott) برداشته شد. آن‎ها مکانیزم تشکیل مانع در فصل‌مشترک فلز و نیمه‎هادی برای حامل‌های بار را توضیح دادند و مدلی برای اندازه‌گیری ارتفاع و شکل این مانع ارائه کردند. امروزه اتصالات فلز- نیمه‎هادی در بسیاری از تجهیزات الکترونیکی مانند دیودها و ترانزیستورها کاربرد دارند.

3- پیش‌زمینه

1-3- ساختار نواری مواد الکترونیکی

قبل از ورود به بحث فیزیک اتصالات نیمه‎هادی- فلز، لازم است که ساختار نواری نیمه‎هادی‎ها و فلزات به‎خوبی درک شوند؛ زیرا ساختار نواری این مواد، تعیین‌کننده رفتار الکترونی محل اتصال این دو ماده خواهد بود. همانطور که می‎دانید، الکترون‎ها در لایه‎های خاص و معینی از انرژی در اطراف هسته اتمی قرار گرفته‎اند. زمانی که تعداد زیادی از اتم‎ها در یک کریستال فلزی یا نیمه‎هادی در کنار یکدیگر قرار می‎گیرند، بر روی هم اثر گذاشته و باعث به‎وجود آمدن تعداد زیادی سطوح انرژی می‎شوند. به عبارت دیگر، الکترون‌های ماده تنها می‌توانند انرژی این سطوح را داشته باشند. این سطوح فاصله بسیار کمی از لحاظ انرژی با یکدیگر دارند و لذا می‎توان مجموعه‌ای از آن‎ها را به صورت پیوسته در نظر گرفت. به مجموعه‌ای از سطوح انرژی با مقادیر انرژی بسیار نزدیک به یکدیگر که الکترون‌ها قادر به قرارگیری در آنها هستند، «نوار انرژی» (energy band) گفته می‌شود. در بین نوارهای انرژی ممکن است بخش‎هایی نیز باشد که اوربیتال‎های اتمی در آن مناطق، همپوشانی نداشته باشند. در چنین سطوحی، هیچ الکترونی اجازه قرارگیری نخواهد داشت. به این سطوح غیرمجاز، «نوار ممنوعه» (band gap) گفته می‎شود. شکل 1 نحوه تشکیل نوار‎های مجاز و ممنوعه را نشان می‎دهد. همانطور که مشاهده می‎شود، با نزدیک شدن دو اتم، اوربیتال‎های آنها شروع به همپوشانی می‌کنند و مناطق مجاز و غیرمجاز قرارگیری الکترون‎ها را به وجود می‎آورند.
شکل 1- شمایی از همپوشانی اوربیتال‎های اتم‎ها در حین نزدیک شدن به یکدیگر [1].
به آخرین نواری که در آن، الکترون وجود دارد، نوار ظرفیت (valence band) و به اولین نوار مجاز بالایی آن نوار هدایت (conduction band) گفته می‎شود. در مواد رسانا معمولاً  این دو نوار با یکدیگر همپوشانی دارند و نوار ممنوعه‎ای بین آن‎ها قرار ندارد. اما درصورتی که ماده عایق و یا نیمه‌هادی باشد، یک نوار ممنوعه بین دو نوار ظرفیت و هدایت قرار می‌گیرد. برخلاف مواد عایق، عرض نوار ممنوعه در نیمه‌هادی‎های ذاتی، نسبتاً کوچک است و الکترون‎های نوار ظرفیت می‎توانند با تهییج مناسب از نوار ظرفیت به نوار هدایت منتقل شوند و در انتقال الکتریسیته نقش بازی کنند. در این صورت، یک حفره در محل اولیه الکترون در نوار ظرفیت به‎وجود می‎آید که باری برابر با بار الکترون اما از نوع مثبت دارد و می‎تواند با انتقال در نوار ظرفیت به انتقال الکتریسیته کمک کند.
نکته قابل توجه اینکه با افزودن ناخالصی به نیمه‎هادی‎های ذاتی می‎توان تعدادی الکترون اضافی در نزدیکی باند هدایت و درست زیر آن، و یا تعدادی حفره اضافی در نزدیکی باند ظرفیت و درست بالای آن به ماده اضافه کرد. اینکه الکترون به ماده افزوده می‌شود یا حفره، بستگی به نوع ناخالصی مورد استفاده دارد. اگر الکترون اضافی به سیستم تزریق شود، «نیمه‎هادی‎های غیرذاتی نوع n» و درصورت تزریق حفرات اضافی، «نیمه‌هادی‌های نوع p» به‌وجود می‌آیند. برای کسب اطلاعات بیشتر در مورد ساختار نواری فلزات، مواد عایق و نیمه‎هادی‎ها، به مقاله «خواص الکتریکی مواد و تئوری نوری» سایت آموزش نانو مراجعه کنید.

2-3- انرژی یا سطح فرمی

انرژی فرمی (EF) یکی از پارامترهای مهم در تحلیل ساختار نواری مواد به‌شمار می‌رود. بسیاری از خواص الکترونیکی مانند خواص نوری، الکتریکی یا مغناطیسی مواد، به موقعیت EF در ساختار نواری بستگی دارند. انرژی فرمی یا سطح فرمی (Fermi level) معمولاً به بالاترین تراز انرژی در یک کریستال گفته می‌شود که الکترون‎ها در دمای صفر مطلق می‎توانند آن را به‌دست آورند. اگر ساختار نواری را به عنوان یک فنجان و الکترون‎ها را مانند آب در نظر بگیریم، سطح آب همان انرژی یا سطح فرمی خواهد بود. هرچه تعداد الکترون‎ها بیشتر باشد، سطح فرمی بالاتر خواهد بود. دلیل اهمیت سطح فرمی در مطالعات نانوالکترونیکی این است که تنها الکترون‌های سطح فرمی در واکنش‌های انتقال بار در مواد شرکت دارند.
در برخی از موارد مانند ساختار نواری مواد نیمه‌هادی، تعریف بالا کاملاً معتبر نیست. به‌همین‌دلیل، تعریف دقیق سطح (انرژی فرمی) براساس تابع فرمی به‌دست می‎آید. طبق این تابع، احتمال حضور الکترون در سطح انرژی معین E از رابطه 1 به‌دست می‎آید:
(رابطه 1)                                                   

که در آن، EF انرژی یا سطح فرمی، KB ثابت بولتزمن و T دما است. در یک دمای معین، اگر سطح انرژی معین E به طور کامل توسط الکترون اشغال شده باشد، F(E) (یا احتمال حضور الکترون در آن سطح) برابر یک و اگر خالی از الکترون باشد، F(E) برابر صفر خواهد بود. طبق این رابطه، در صفر مطلق (T=0)، برای سطوح انرژی که پایین‎تر از EF قرار دارند، مقدار عبارت exp برابر صفر و در نتیجه، احتمال حضور الکترون در آن‎ها یک است. به‌طور مشابه، برای سطوح انرژی که بالاتر از EF قرار دارند، مقدار عبارت exp برابر +∞ است و در نتیجه، احتمال حضور الکترون در آن‎ها برابر صفر خواهد بود. توزیع تابع فرمی در دمای صفر مطلق در شکل 2-الف نشان داده شده است.

شکل 2- توزیع تابع فرمی در دمای صفر مطلق (الف) و در دمای بالاتر از صفر مطلق (ب) [1].
در دماهای بالا‌تر از صفر مطلق، اگر E=EF باشد، احتمال حضور الکترون  خواهد بود. در واقع سطح فرمی، سطحی است که احتمال حضور الکترون در آن برابر  است. شکل 2-ب توزیع تابع فرمی را در دمای T>0K نشان می‌دهد. این تغییرشکل در نمودار توزیع انرژی الکترون‌ها با افزایش دما نشان می‌دهد که الکترون‎ها با دریافت انرژی ناشی از افزایش دما، توانایی انتقال به سطوح بالاتر انرژی را دارند. لازم به ذکر است که محل سطح فرمی یا همان انرژی فرمی لزوماً در داخل لایه‌های مجاز قرار نمی‎گیرد و ممکن است در عرض نوار ممنوعه نیز قرار گیرد. این پدیده در مواد نیمه‌هادی مشاهده شده است. همچنین، اختلاف انرژی فرمی دو ماده همان مقداری است که با اتصال ولت‎‌متر بین آن دو ماده اندازه‌گیری می‎شود. با اتصال دو ماده با سطح انرژی فرمی مختلف، الکترون‎ها از ماده‌ای با انرژی فرمی بیشتر به ماده‌ای با انرژی فرمی کمتر منتقل می‎شوند و این انتقال تا زمانی انجام می‌شود که سطح فرمی دو ماده برابر شوند.
در مواد عایق، سطح فرمی در وسط نوار ممنوعه و دورتر از هر تراز مجاز انرژی قرار می‌گیرد. در نیمه‎هادی‌های ذاتی، این تراز دقیقاً در وسط نوار ممنوعه قرار دارد، با این تفاوت که الکترون‎ها با افزایش دما، قابلیت انتقال به نوار هدایت را دارند. اما در مواد عایق، این توانایی وجود ندارد. اما در فلزات و نیمه‌فلزات، سطح فرمی در داخل نوارهای مجاز قرار دارد. در نیمه‎هادی‌های غیرذاتی نوع p نیز به دلیل وجود حفره اضافی در نوار ظرفیت، سطح فرمی، در داخل نوار ممنوعه و در نزدیکی نوار ظرفیت قرار می‌گیرد. به‌طور مشابه، در نیمه‎هادی‌های غیرذاتی نوع n، به دلیل وجود الکترون‎های اضافی در نوار هدایت، سطح فرمی، در داخل نوار ممنوعه و در نزدیکی نوار هدایت قرار دارد. هرچه تعداد حفرات و یا الکترون‎های اضافی بیشتر باشد، سطح فرمی به نوار ظرفیت یا هدایت نزدیک‎تر می‎شود. شکل 3 شمایی از محل سطح فرمی در انواع مواد مهندسی را نشان می‌دهد.
شکل 3- شمایی از محل سطح فرمی در مواد مختلف [2].

3-3- تابع کار(work function)

به اختلاف «انرژی سطح فرمی» و «انرژی سطح یونیزه شدن» یک ماده، «تابع کار» آن ماده گفته می‌شود. در واقع، تابع کار (Ø)، انرژی لازم برای انتقال یک الکترون از سطح فرمی به بی‌نهایت (دور از هسته) است.

4-3- وابستگی الکترون (electron affinity)

به اختلاف «انرژی لبه پایینی نوار هدایت» و «انرژی سطح یونیزه شدن»، وابستگی الکترون گفته می‌شود. در واقع، وابستگی الکترون (§)، انرژی لازم برای انتقال یک الکترون از لبه پایینی نوار هدایت به بینهایت (دور از هسته) است.

5-3- خمش نوار (band bending)

فرض کنید که به سطح یک نیمه‎هادی غیرذاتی از نوع n به نحوی بار منفی داده شده است. بار منفی روی سطح، الکترون‎های آزاد نوار هدایت نیمه‎هادی را در نزدیکی سطح به‌سمت داخل می‎راند. در نتیجه، یون‎های مثبت در لایه‌ای نازک در نزدیکی سطح نیمه‌‎هادی به‎وجود می‎آیند. به این بخش از سطح نیمه‌هادی، «لایه تهی» (depletion layer) گفته می‎شود. این تغییر در چگالی الکترون‎های نوار هدایت، ساختار نواری را در لایه تهی تغییر می‎دهد. با کاهش الکترون‎ها، سطح فرمی باید پایین بیاید؛ زیرا تعداد الکترون‎ها در لایه‎های بالایی نزدیک به سطح نیمه‌هادی کاهش یافته و احتمال حضور الکترون در آنها کم می‌شود. لذا سطح فرمی که در آن، احتمال حضور الکترون  برابر 0.5 است، باید کاهش یابد. اما از طرف دیگر، سطح فرمی باید در طول نیمه‎هادی در یک تراز ثابت باقی بماند (به‌دلیل تعادل الکتریکی). از این‌رو، لبه نوار هدایت در ناحیه تهی شده به سمت بالا خم می‎شود تا فاصله بین لبه نوار هدایت و سطح فرمی افزایش یابد (شکل4-الف). از طرفی دیگر، چون نوار ممنوعه نیمه‎هادی باید ثابت باشد (انرژی نوار ممنوعه در طول نیمه‎هادی ثابت است)، لبه بالایی نوار ظرفیت نیز با خمش لبه پایینی نوار هدایت خم می‎شود.
شکل 4- خمش لبه نوارهای هدایت وظرفیت نیمه‎هادی غیرذاتی نوع n که به سطح آن، بار منفی اعمال شده است (الف) و نوع p که به سطح آن بار مثبت اعمال شده است (ب) [1].
به‌طور مشابه، اگر به سطح یک نیمه‎هادی غیرذاتی نوع p بار مثبت داده شود، حامل‎های مثبت بار (حفره‎های الکترونی) در نوار ظرفیت به سمت داخل نیمه‎هادی رانده می‌شوند و ناحیه‌ای تهی به‌وجود می‎آید. با کاهش غلظت حفره در نوار ظرفیت، فاصله بین سطح فرمی و لبه نوار ظرفیت باید افزایش یابد و چون سطح فرمی ثابت است، لبه نوار ظرفیت به‌سمت پایین خم می‎شود. لبه نوار هدایت نیز به همان مقدار به سمت پایین خم می‎شود تا انرژی نوار ممنوعه نیمه‌هادی ثابت بماند (شکل 4-ب).

4- اتصالات مانع شاتکی

یک فلز و یک نیمه‎هادی غیرذاتی نوع n را در نظر بگیرید که تابع کار فلز از نیمه‎هادی بیشتر باشد. در این حالت، سطح فرمی فلز پایین‌تر از سطح فرمی نیمه‎هادی خواهد بود (شکل 5-الف). زمانی که این دو قطعه به یکدیگر متصل می‎شوند، الکترون‎ها از نیمه‎هادی به سمت فلز شارش می‌یابند. دلیل این پدیده، حرکت خودبه‎خودی الکترون‎ها از پتانسیل بالاتر (سطح فرمی بالاتر) به سمت پتانسیل کمتر (سطح فرمی پایین‎تر) است. این شارش تا زمانی ادامه پیدا می‎کند که سطح فرمی دو ماده به یکدیگر برسد و تعادل برقرار شود (شکل 5-ب). در نتیجه، فلز بار منفی به خود می‎گیرد و یک لایه تهی در سطح نیمه‎هادی و در نزدیکی محل اتصال به‎وجود می‎آید. با ثابت گرفتن سطح فرمی فلز به عنوان مرجع، نوارهای انرژی در مرکز نیمه‎هادی به اندازه ØMS پایین‎تر می‎آیند.
شکل 5- ساختار نواری یک فلز و نیمه‎هادی غیرذاتی نوع n برای حالتی که تابع کار فلز بیشتر از نیمه‎هادی است (ØM>ØS): قبل (الف) و بعد (ب) از اتصال. مانع پتانسیلی در برابر حرکت الکترون در شکل (ب) به صورت خط ضخیم رسم شده است. توجه شود که سطح یونیزه (سطح انرژی بینهایت) برای تمام مواد یکسان است. [1].
در حالت تعادل، تعداد الکترون‎هایی که از دو طرف مانع پتانسیل عبور می‎کنند یکسان است. به این حرکت الکترون‎ها، جریان نفوذی (diffusion current) گفته می‎شود. با اینکه تعداد الکترون‎های موجود در سمت فلز بیشتر از تعداد الکترون‌های موجود در سمت نیمه‎هادی است، اما مانع موجود در برابر عبور الکترون‎های فلز، بزرگتر از مانع موجود در برابر الکترون‎های نیمه‎هادی است. لذا جریان عبوری از دو سمت برابر خواهد بود.
به‌طور مشابه، اگر یک نیمه‎هادی غیرذاتی نوع p به یک فلز متصل شود به‌طوری که ØMS، الکترون‎ها از سمت فلز به سمت نیمه‎هادی شارش می‌یابند. در نتیجه، فلز و سطح نیمه‎هادی، بار مثبت به خود می‌گیرند. لذا براساس شکل 6،  ناحیه تهی، با لبه‎های خم شده به سمت پایین، در نزدیکی مرز اتصال تشکیل می‎شود.
شکل 6- ساختار نواری یک فلز و نیمه‎هادی غیرذاتی نوع p که در آن، ØM<ØS : قبل (الف) و بعد (ب) از اتصال [1].
حال اگر یک جریان خارجی بر روی اتصال اعمال شود، تغییراتی در ساختار نواری اتصال به‎وجود می‎آید. برای ورود به بحث، اتصالی متشکل از یک نیمه‎هادی غیرذاتی نوع n و یک لایه فلزی (مانند شکل 5) را درنظر بگیرید که فلز به قطب منفی باتری و نیمه‎هادی به قطب مثبت باتری وصل شده باشد. به ولتاژ خارجی وارد شده، «ولتاژ بایاس» و به جریان آن، «جریان بایاس» گفته می‎شود. در این حالت، فلز بار منفی بیشتری نسبت به حالتی که ولتاژ بایاس اعمال نمی‎شود به‎خود می‎گیرد. لذا الکترون‎های آزاد در نیمه‎هادی به فواصل دورتر رانده می‌شوند و ناحیه تهی در داخل نیمه‎هادی بزرگتر می‎گردد (شکل 7-الف). در این حالت گفته می‌شود که اتصال در حالت «بایاس معکوس» (reverse bias) قرار دارد. در بایاس معکوس، انتقال الکترون در هر دو سمت بسیار محدود است و در واقع، الکترونی از مانع عبور نمی‎کند. البته مقدار ناچیزی جریان از سمت فلز به سمت نیمه‎هادی وجود دارد که قابل چشم‌پوشی است.
شکل 7- ساختار نواری اتصال فلز و نیمه‎رسانای نوع n در حالت غیرتعادلی بایاس معکوس (الف) و بایاس مستقیم (ب). تعداد الکترون‎هایی که در دو جهت شارش پیدا می‎کنند و همچنین جریان کلی الکترون‎ها در هر حالت، با طول فلش‎های رسم شده نسبت مستقیم دارد [1].
حال اگر قطب‎های باتری عوض شود و فلز به قطب مثبت و نیمه‎هادی به قطب منفی متصل شود، ضخامت ناحیه تهی کاهش یافته، ارتفاع مانع پتانسیلی در مرز اتصال کاهش پیدا می‎کند و الکترون‎ها قابلیت حرکت از سمت نیمه‎هادی به فلز را پیدا می‎کنند. به این حالت، بایاس مستقیم (forward bias) گفته می‎شود (شکل 7-ب).
در دوی این حالات که جریان خارجی اعمال شده است، اتصال از حالت تعادل خارج می‌شود و سطوح فرمی فلز و نیمه‎هادی، دیگر در یک تراز قرار نمی‎گیرند. همچنین، در هر دو حالت بایاس مستقیم و غیر مستقیم، تابع کار فلز تغییری نمی‎کند، بلکه این نیمه‎هادی است که ولتاژ اعمالی باعث تغییر تابع کار، سطح فرمی و لبه‎های نوارهای هدایت و ظرفیت آن می‎شود.
با اتصال نیمه‎هادی نوع p به فلز در شرایط «ØMS» (یعنی تابع کار فلز کوچکتر از تابع کار نیمه‎هادی است)، برقراری جریان، حالات مشابهی را در اتصال به‎وجود می‎آورد. به این نوع اتصالات، «موانع شاتکی» گفته می‌شود. موانع شاتکی فقط می‌توانند جریان الکتریکی را در یک جهت معینی عبور دهند، درحالی که با تغییر جهت جریان، عبور الکتریسیته مختل می‎شود. به این نوع عملکرد، «یکسوکنندگی» گفته می‎شود. این پدیده در ساخت دیودها مورد استفاده قرار می‌گیرند.

5- اتصال اهمی

در شکل 8، ساختار نواری اتصال فلز با نیمه‎رسانای غیرذاتی نوع n نشان داده شده است، به‌طوری که ØMS. در این حالت، به‌دلیل بالاتر بودن سطح فرمی فلز از سطح فرمی نیمه‎هادی، الکترون‎ها از سمت فلز به‌سمت نیمه‎هادی شارش می‎یابند و فلز و سطح نیمه‎هادی بار مثبت به‎خود می‎گیرد. در نتیجه، لبه نوارهای هدایت و ظرفیت نیمه‎هادی به‌سمت پایین خم می‎شوند و دیگر مانعی در برابر عبور الکترون وجود نخواهد داشت. الکترون از هر سمتی بخواد به سمت دیگر می‎تواند بدون هیچ مانعی عبور کند (با خم شدن نوار هدایت به سمت پایین، نوار هدایت به سطح فرمی فلز می‎رسد و در نتیجه، الکترون‎ها بدون هیچ مزاحمتی در دو جهت شار می‎یابند). در این حالت، اگر ولتاژ خارجی در هر جهتی اعمال شود، جریان نیز در همان جهت برقرار می‎شود و با افزایش ولتاژ افزایش می‏‎یابد. نسبت جریان به ولتاژ نسبتاً خطی بوده و از قانون اهم پیروی می‎کند. لذا به این نوع از اتصالات، اتصالات اهمی گفته می‎شود.
شکل 8- اتصال اهمی بین فلز و نیمه‎هادی غیرذاتی نوع n که ØM<ØS: در حالتی که فلز و نیمه‎رسانا دور از یکدیگر قرار دارند (الف) و درحالتی که به یکدیگر متصل می‎شوند (ب) [1].
لازم به ذکر است که اتصال نیمه‎هادی غیرذاتی نوع p به فلز تحت شرایط ØMS نیز یک اتصال اهمی است و باعث اتفاقات مشابه می‎شود.

نتیجه‎ گیری     

                                       
امروزه در اکثر قطعات میکرو و نانوالکترونیکی، از اتصالات فلز-نیمه‎هادی استفاده می‌شود. ساختار نواری نیمه‎هادی و فلز مورد استفاده، نحوه عملکرد اتصال در برابر عبور جریان را تعیین می‎کنند. بسته به نوع نیمه‎هادی (نوع n یاp ) و اختلاف بین تابع کار فلز و نیمه‎هادی، اتصالات فلز-نیمه‎هادی می‎توانند از نوع «مانع شاتکی» یا «اتصال اهمی» ‎باشند. اتصالات شاتکی یکسوکننده هستند و فقط می‌توانند جریان الکتریکی را در یک جهت خاص عبور دهند. در مقابل، جریان از هر دو سمت  اتصال اهمی عبور می‎کند و رابطه بین جریان و ولتاژ اتصال، اهمی خطی است.

منابـــع و مراجــــع


۱ – Hummel, R.E., Electronic Properties of Materials. 2011: Springer New York.
۲ – Cohen, S.S.G.S. Gildenblat, VLSI Electronics Microstructure Science. vol, 1986. 13: p. 254-261.
۳ – Solymar, L.D. Walsh, Electrical Properties of Materials, Seventh Edition. 2004: Oxford University Press.
۴ – Sharma, B.L., Metal-Semiconductor Schottky Barrier JunctionsTheir Applications. 2013: Springer US.

نوشته های مشابه

دیدگاهتان را بنویسید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *

دکمه بازگشت به بالا