با توجه به کاربرد لایه‌های نازک در بخشهای مختلف صنعت، تاکنون روش‌های مختلفی برای ساخت لایه‌های نازک معرفی شده است. یکی از روش‌هایی که برای ساخت لایه‌های نازک استفاده می‌شود، لایه‌نشانی به روش رسوب‌دهی فیزیکی از فاز بخار (PVD) است [1]. روش PVD یکی از روش‌های لایه‌نشانی در خلأ بوده و دارای انواع مختلفی است. روش کندوپاش به عنوان یکی از این روش‌ها دارای مراحل مختلفی شامل تبخیر ماده منبع، انتقال بخار از منبع به زیرلایه و تشکیل لایه نازک روی زیرلایه است [2]. در این روش، ماده هدف که به ولتاژ منفی متصل است، نقش کاتد را دارد. با برخورد ذرات پر‌انرژی به سطح ماده هدف، اتم‌ها یا مولکول‌های آن از سطح جدا شده و به بیرون پرتاب می‌شوند و در میدان ایجاد‌کننده پلاسما شتاب می‌گیرند. بدین ترتیب لایه‌ای از جنس ماده هدف روی زیرلایه (آند) که به ولتاژ مثبت متصل است، انباشت می‌شود. از این روش برای ایجاد پوشش و تهیه لایه‌های نازک برای کاربردهای اپتیکی، ذخیره‌سازی مغناطیسی و غیره مورد استفاده قرار می‌گیرد.
ادامه مطلب
ادامه مطلب
